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石墨盘专用真空烤盘炉

 一.产品介绍

真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。

二、设计特点

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的

三、技术指标

使用温度

1450℃

最高温度

1500℃

绝热材料

石墨纤维毯、石墨纸

马弗材料

SUS304

加热元件

石墨加热棒

冷却方式

气冷+循环风冷降温

控温稳定度

±2℃,具有PID参数自整定功能

炉膛温度均匀度

±5℃(恒温1550℃)

控温热偶

Wre5

升温速率

15℃/min(空载)

控温点数

1点

降温速率

1450℃至80℃,240分钟

监测点数

1点

极限真空

10-3torr级

气氛

可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≧99.999%

抽气速率

空载下,30min达到10-2torr

报警;

超温、断偶、停气等声光报警;

设备颜色

电脑驼灰色

电源

容量大于160KVA,3相5线,220/380VAC,50Hz

参考型号

MOLKP-518W710×H710×D1000mm)

MOLKP-1000(W1000×H1000×D1000mm)

MOLKP-1200(W1000×H1000×D1200mm)

 


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